gca當時投入研發euv技術項目的3000萬美元經費，可以收購asml40%的股權，不是一筆小數目！
gca當時賬上的現金流隻剩下300多萬美元，公司要花錢的地方多的是。
孫健前世在互聯網上看過不少有關asml euv光刻機的文章，作者紛紛感歎研發和生產euv光刻機之難難於上青天，被稱為外星人的科技水準，是迄今為止人類科技領域所能達到的最尖端技術，沒有之一。
為了打破封鎖，投入巨資，舉國之力也沒有看見成果。
前世90年代末，幹式193nm波長光刻機遇到了65nm製程工藝的極限，再往下就寸步難行，如何跨入40nm製程工藝？成為阻擋所有光刻機等半導體廠商的世界性難題，科學家和產業界提出了各種超越193nm波長的方案，其中包括157nm f2激光，電子束投射(epl)，離子投射(ipl)、euv(13.5nm)和x光等。
相對而言，157nm f2激光的技術難度稍低，不少公司開始下注157nm f2激光，其中尼康和svg在這個技術路線走的最遠，是最接近商業化量產的兩家公司。
幾年後，asml收購了svg，也擁有了157nmf2激光技術，又砸下數億美元進行研發，此外asml也還嚐試開發euv光刻機。
財大氣粗的英特爾一開始就傾向於激進的euv(13.5nm)方案，希望徹底解決光刻機的波長世界性難題，集中全球頂尖科技精英一起愚公移山，他們說服對高科技開明的克林頓內閣，發起成立了euv llc（euv有限責任公司）。
euv llc由英特爾和美國能源部牽頭，集中了當時如日中天的摩托羅拉、ibm和amd，以及享有盛譽的美國三大國家實驗室：勞倫斯利弗莫爾實驗室、勞倫斯伯克利實驗室和桑迪亞國家實驗室，集中數百位世界頂尖科學家，投資2億美元研發經費，從理論上驗證 euv可能存在的技術問題。
英特爾當時打算邀請光刻機行業第一、第二位的nikon和asml加入euv llc，但美國政府擔心最前沿的光刻機技術落入外國公司手中，反對nikon和asml加入。
asml為了表現誠意，同意在美國建立一所工廠和一個研發中心，以此滿足所有美國本土的產能需求，另外，還保證55%的零部件均從美國供應商處采購，並接受定期審查，做出多項讓步後，最後成功加入euv llc，能夠享受其基礎研究成果，nikon卻沒有機會加入，失去了同asml競爭的機會。
幾年之後，終於論證了euv的可行性，於是euv llc的使命完成，公司解散，各個成員踏上獨自研發之路。
asml加入euv llc後，享受到的研究成果大大加快了其euv的研發進度，2005年摩爾定律陷入停滯，極紫外光刻技術被認為是製程突破10nm製程工藝的關鍵，但由於euv光刻機幾乎逼近物理學、材料學以及精密製造的極限，光源功率要求極高，透鏡和反射鏡係統也極致精密，還需要真空環境，配套的抗蝕劑和防護膜的良品率也不高，別說是對日本與荷蘭，就算是科技全球第一的美國，舉國之力獨自突破這項世界最尖端的技術，也是癡人說夢。
由於技術難度極高，需要巨額的研發資金，尼康和佳能隻得選擇放棄，徹底淪為中低端光刻機廠商。
asml成為唯一的候選人！
asml以23%的股權得到英特爾、三星和台積電的53億歐元的研發euv光刻機的資金，而這三家客戶也因此獲得優先供貨權。
asml也成為美國大財團控股的荷蘭高科技公司！
從1997年，英特爾和美國能源部牽頭成立euv llc開始，到孫健重生前的2017年，asml才成功量產第一台euv光刻機，集中全球物理學、材料學和精密製造極限的技術成果，還用了整整20年的時間！
euv光刻機研製成功之難難於上青山不是一句調侃！
孫健預測再投入1億美元，湯普森團隊就是能研究成功euv，在euv光刻機這種人類技術最複雜的宏偉工程麵前，gca即使耗費幾十億美元的研發經費，也不可能獨自生產成功，要集中全球最頂尖的物理學、材料學和精密製造等科技成果，也隻有美國才有這樣的組織能力。
gca生產高端光刻機，bsec生產中低端光刻機，這是收購gca時，孫健給兩家公司的定位，不以他的意誌為轉移。
gca重獲新生，asml將失去進入euv llc的機會，asml獨自研製成功euv光刻機如同癡人說夢話，bsec也不能！
蘇聯解體後，以俄羅斯為首的東歐國家已經倒向西方陣營，同我們友好的國家，其經濟和科技實力都不強，在如今的科技和經濟條件下，舉國之力，bsec研製euv光刻機，沒有20年，也看不到成果。
重生者又不是神仙！
在美國政府和高科技公司的技術和資金支持下，全球隻有gca才有可能研製成功euv光刻機，不然，耗費的研發資金就有可能拖垮gca。
gca終歸是美國半導體設備生產的高科技公司，一旦中美交e，美國政府會以國家安全為由收迴tic持有的gca股權，除非加入美籍，孫健早有心理準備，到時，出售gter或ibm，收迴幾十億美元的投資應該問題不大。
美國人的鍥約精神隻有公知才相信！
gca研發成功euv光刻機耗時越長，對bsec越有利，一旦浸沒式光刻機在euv光刻機之前研製成功，bsec將成為光刻機行業的一匹黑馬！
bsec才是孫健需要真正關心的孩子，但要養大這個孩子也不容易。
------
“董事長，我從一個在商務部工作的朋友那裏得到確鑿消息，如今th關係緊張，商務部出口管製委員會不同意公司出口250nm製程工藝的半導體生產線給pgca的申請，除非克林頓總體出麵授權！”
三天後，艾德裏安向孫健匯報，一臉的遺憾，希望孫健直接找克林頓總統。
“艾德裏安先生辛苦了，我明天迴國。”
孫健早就料到這個結果，不是十分遺憾，他不會為了gca和pgca的利益，前往總統府，請求克林頓給gca和pgca一個機會，在如今th關係緊張的敏感時期，即使成功，一旦被有心人利用，傳到國內互聯網上，卑躬屈膝，漢奸，奴才……
gca當時賬上的現金流隻剩下300多萬美元，公司要花錢的地方多的是。
孫健前世在互聯網上看過不少有關asml euv光刻機的文章，作者紛紛感歎研發和生產euv光刻機之難難於上青天，被稱為外星人的科技水準，是迄今為止人類科技領域所能達到的最尖端技術，沒有之一。
為了打破封鎖，投入巨資，舉國之力也沒有看見成果。
前世90年代末，幹式193nm波長光刻機遇到了65nm製程工藝的極限，再往下就寸步難行，如何跨入40nm製程工藝？成為阻擋所有光刻機等半導體廠商的世界性難題，科學家和產業界提出了各種超越193nm波長的方案，其中包括157nm f2激光，電子束投射(epl)，離子投射(ipl)、euv(13.5nm)和x光等。
相對而言，157nm f2激光的技術難度稍低，不少公司開始下注157nm f2激光，其中尼康和svg在這個技術路線走的最遠，是最接近商業化量產的兩家公司。
幾年後，asml收購了svg，也擁有了157nmf2激光技術，又砸下數億美元進行研發，此外asml也還嚐試開發euv光刻機。
財大氣粗的英特爾一開始就傾向於激進的euv(13.5nm)方案，希望徹底解決光刻機的波長世界性難題，集中全球頂尖科技精英一起愚公移山，他們說服對高科技開明的克林頓內閣，發起成立了euv llc（euv有限責任公司）。
euv llc由英特爾和美國能源部牽頭，集中了當時如日中天的摩托羅拉、ibm和amd，以及享有盛譽的美國三大國家實驗室：勞倫斯利弗莫爾實驗室、勞倫斯伯克利實驗室和桑迪亞國家實驗室，集中數百位世界頂尖科學家，投資2億美元研發經費，從理論上驗證 euv可能存在的技術問題。
英特爾當時打算邀請光刻機行業第一、第二位的nikon和asml加入euv llc，但美國政府擔心最前沿的光刻機技術落入外國公司手中，反對nikon和asml加入。
asml為了表現誠意，同意在美國建立一所工廠和一個研發中心，以此滿足所有美國本土的產能需求，另外，還保證55%的零部件均從美國供應商處采購，並接受定期審查，做出多項讓步後，最後成功加入euv llc，能夠享受其基礎研究成果，nikon卻沒有機會加入，失去了同asml競爭的機會。
幾年之後，終於論證了euv的可行性，於是euv llc的使命完成，公司解散，各個成員踏上獨自研發之路。
asml加入euv llc後，享受到的研究成果大大加快了其euv的研發進度，2005年摩爾定律陷入停滯，極紫外光刻技術被認為是製程突破10nm製程工藝的關鍵，但由於euv光刻機幾乎逼近物理學、材料學以及精密製造的極限，光源功率要求極高，透鏡和反射鏡係統也極致精密，還需要真空環境，配套的抗蝕劑和防護膜的良品率也不高，別說是對日本與荷蘭，就算是科技全球第一的美國，舉國之力獨自突破這項世界最尖端的技術，也是癡人說夢。
由於技術難度極高，需要巨額的研發資金，尼康和佳能隻得選擇放棄，徹底淪為中低端光刻機廠商。
asml成為唯一的候選人！
asml以23%的股權得到英特爾、三星和台積電的53億歐元的研發euv光刻機的資金，而這三家客戶也因此獲得優先供貨權。
asml也成為美國大財團控股的荷蘭高科技公司！
從1997年，英特爾和美國能源部牽頭成立euv llc開始，到孫健重生前的2017年，asml才成功量產第一台euv光刻機，集中全球物理學、材料學和精密製造極限的技術成果，還用了整整20年的時間！
euv光刻機研製成功之難難於上青山不是一句調侃！
孫健預測再投入1億美元，湯普森團隊就是能研究成功euv，在euv光刻機這種人類技術最複雜的宏偉工程麵前，gca即使耗費幾十億美元的研發經費，也不可能獨自生產成功，要集中全球最頂尖的物理學、材料學和精密製造等科技成果，也隻有美國才有這樣的組織能力。
gca生產高端光刻機，bsec生產中低端光刻機，這是收購gca時，孫健給兩家公司的定位，不以他的意誌為轉移。
gca重獲新生，asml將失去進入euv llc的機會，asml獨自研製成功euv光刻機如同癡人說夢話，bsec也不能！
蘇聯解體後，以俄羅斯為首的東歐國家已經倒向西方陣營，同我們友好的國家，其經濟和科技實力都不強，在如今的科技和經濟條件下，舉國之力，bsec研製euv光刻機，沒有20年，也看不到成果。
重生者又不是神仙！
在美國政府和高科技公司的技術和資金支持下，全球隻有gca才有可能研製成功euv光刻機，不然，耗費的研發資金就有可能拖垮gca。
gca終歸是美國半導體設備生產的高科技公司，一旦中美交e，美國政府會以國家安全為由收迴tic持有的gca股權，除非加入美籍，孫健早有心理準備，到時，出售gter或ibm，收迴幾十億美元的投資應該問題不大。
美國人的鍥約精神隻有公知才相信！
gca研發成功euv光刻機耗時越長，對bsec越有利，一旦浸沒式光刻機在euv光刻機之前研製成功，bsec將成為光刻機行業的一匹黑馬！
bsec才是孫健需要真正關心的孩子，但要養大這個孩子也不容易。
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“董事長，我從一個在商務部工作的朋友那裏得到確鑿消息，如今th關係緊張，商務部出口管製委員會不同意公司出口250nm製程工藝的半導體生產線給pgca的申請，除非克林頓總體出麵授權！”
三天後，艾德裏安向孫健匯報，一臉的遺憾，希望孫健直接找克林頓總統。
“艾德裏安先生辛苦了，我明天迴國。”
孫健早就料到這個結果，不是十分遺憾，他不會為了gca和pgca的利益，前往總統府，請求克林頓給gca和pgca一個機會，在如今th關係緊張的敏感時期，即使成功，一旦被有心人利用，傳到國內互聯網上，卑躬屈膝，漢奸，奴才……